離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

發(fā)布日期：2023-06-26      瀏覽次數：1343

離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

離子濺射儀的鍍膜的主要方式有兩種：熱蒸發(fā)和離子濺射（包括直流濺射和磁控濺射）。

 熱蒸發(fā)是通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積到樣品表面并形成膜。




離子濺射是將靶材、樣品均置于真空室中；首先進行抽真空，實現輝光放電所需的低氣壓環(huán)境；靶材接高壓，為負極；樣品臺接地，為正極；靶材與樣品臺之間形成高壓電場，電離氣體；氣體電離后，正離子飛向負極，轟擊靶材，靶材原子被濺射飛出，沉積到樣品上形成導電膜。






MSP-1S

該設備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，樣品臺是浮動的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單，只需按一下按鈕，就沒有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途
用于 SEM 樣品的金屬涂層設備。

關于目標金屬

當您下第一個訂單時，您將收到您選擇的一個貴金屬目標。
請根據使用目的選擇。


AU：黃金觀察區(qū)域：10，000~10，000倍 Au-PD：金鈀

觀察區(qū)域：10，000~50，000倍
非常適合
低倍率觀察和良好的對比度。

鉑：鉑金 觀察區(qū)域：50，000~100，000次 Pt-PD：鉑鈀

觀察區(qū)域：30，000~50，000倍
它具有細
粒度，通常用于高倍率觀察。